土井精密ラップ株式会社
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セラミックスタンド ＣM−１１２
・作業ベースにセラミック定盤を採用 （平面度０．６μｍ以下、石より高硬度）
・鏡面仕上げ
・サブミクロン測定に最適
ＣＭ−１１２ーＢ１（シャンク径 Φ８mm）
ＣＭ−１１２ーＥ（シャンク径 Φ２５mm Φ２０mm）
ＣＭ−１１２ーＢ２（シャンク径 Φ８mm微動付き）
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セラミックスタンド ＣM−１１２
・作業ベースにセラミック定盤を採用 （平面度０．６μｍ以下、石より高硬度）
・鏡面仕上げ
・サブミクロン測定に最適
ＣＭ−１１２ーＢ１（シャンク径 Φ８mm）
ＣＭ−１１２ーＥ（シャンク径 Φ２５mm Φ２０mm）
ＣＭ−１１２ーＢ２（シャンク径 Φ８mm微動付き）
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